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Sensofar 3D光學(xué)輪廓儀的微電子檢測

產(chǎn)品簡介

Sensofar 3D光學(xué)輪廓儀的微電子檢測:Sensofar S neox可高精度測量晶圓凸點、再布線線路及硅通孔的三維形貌與尺寸,為先進封裝工藝提供快速、可靠的晶圓級質(zhì)量監(jiān)控方案。

產(chǎn)品型號:
更新時間:2025-11-27
廠商性質(zhì):代理商
訪問量:38
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Sensofar 3D光學(xué)輪廓儀的微電子檢測

Sensofar S neox 3D光學(xué)輪廓儀在微電子封裝檢測領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用。隨著微電子封裝技術(shù)向高密度、三維集成方向發(fā)展,對檢測技術(shù)提出了更高要求。該儀器以其高精度、高效率的測量特點,為微電子封裝提供了有效的檢測方案。
在晶圓級封裝中,凸點高度和共面性是關(guān)鍵參數(shù)。該儀器可以快速測量整個晶圓上的凸點高度分布,評估封裝工藝的均勻性。對于微米級凸點,儀器能夠提供亞微米級的測量精度,滿足先進封裝的要求。5軸運動系統(tǒng)允許調(diào)整測量角度,獲得更準(zhǔn)確的凸點形貌數(shù)據(jù)。
再布線層的檢測是另一個重要應(yīng)用。儀器可以測量線路的寬度、高度和側(cè)壁角度,評估線路加工質(zhì)量。對于微細(xì)線路,其高分辨率能夠檢測邊緣粗糙度等微觀特征。這些參數(shù)直接影響信號傳輸質(zhì)量和封裝可靠性。
硅通孔技術(shù)的檢測具有挑戰(zhàn)性,但該儀器仍能提供有用的測量數(shù)據(jù)。它可以測量通孔的深度、直徑等幾何參數(shù),通過優(yōu)化測量條件,可以獲得通孔底部的形貌信息。這些數(shù)據(jù)對三維集成技術(shù)的發(fā)展具有支持作用。
在三維集成技術(shù)中,芯片堆疊的間隙控制很重要。儀器可以測量芯片之間的間隙尺寸,評估填充材料的狀況。對于通過硅通孔實現(xiàn)的垂直互連,可以測量互連點的平面度和高度一致性,確保連接可靠性。

封裝體的翹曲變形分析也是重要應(yīng)用領(lǐng)域。通過全場測量,可以獲取封裝體在溫度變化過程中的形變數(shù)據(jù),分析熱應(yīng)力分布。這些信息對優(yōu)化封裝結(jié)構(gòu)和材料選擇具有指導(dǎo)意義,有助于提高封裝產(chǎn)品的可靠性。

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